【フォトリソグラフィ】ビジプリ印刷用語辞典
フォトリソグラフィ
フォトリソグラフィ
（ふりがな：ふぉとりそぐらふぃ、英語表記：Photolithography）とは、特に半導体やマイクロエレクトロニクスの製造分野において広く用いられる技術です。このプロセスは、光（主に紫外線）を使用して、感光性材料（レジスト）に特定のパターンを形成することにより、電子回路の微細な構造を製造するための基本技術です。
フォトリソグラフィの工程は複数のステップから成り立っています。まず、半導体ウェハーやその他の基板の表面に感光性レジストを均一に塗布します。次に、このレジストを覆うようにしてパターンが施されたマスク（フォトマスク）を配置し、紫外線などの光源を用いてマスクを通してレジストに露光します。露光されたレジストは化学的に変化し、未露光部との溶解性の差により、特定のパターンのみを残して他の部分を洗い流すことができます。このプロセスを通じて、半導体チップ上に微細な電子回路のパターンが形成されます。
フォトリソグラフィ技術の精度は、製造されるデバイスの性能や微細化の程度に直接影響を及ぼします。したがって、より高精細なパターンの実現を目指した技術の進化が続いています。近年では、従来の紫外線を超える短波長の極紫外線（EUV）を用いたリソグラフィが開発されており、さらなる微細化と高性能化が可能になっています。
フォトリソグラフィは、半導体業界において不可欠な技術であり、現代の電子デバイス、特にスマートフォンやコンピュータのCPUなどの製造には欠かせません。この技術によって、電子機器の小型化、高性能化が進み、我々の生活を豊かにするさまざまな製品が生み出されています。
フォトリソグラフィの工程は複数のステップから成り立っています。まず、半導体ウェハーやその他の基板の表面に感光性レジストを均一に塗布します。次に、このレジストを覆うようにしてパターンが施されたマスク（フォトマスク）を配置し、紫外線などの光源を用いてマスクを通してレジストに露光します。露光されたレジストは化学的に変化し、未露光部との溶解性の差により、特定のパターンのみを残して他の部分を洗い流すことができます。このプロセスを通じて、半導体チップ上に微細な電子回路のパターンが形成されます。
フォトリソグラフィ技術の精度は、製造されるデバイスの性能や微細化の程度に直接影響を及ぼします。したがって、より高精細なパターンの実現を目指した技術の進化が続いています。近年では、従来の紫外線を超える短波長の極紫外線（EUV）を用いたリソグラフィが開発されており、さらなる微細化と高性能化が可能になっています。
フォトリソグラフィは、半導体業界において不可欠な技術であり、現代の電子デバイス、特にスマートフォンやコンピュータのCPUなどの製造には欠かせません。この技術によって、電子機器の小型化、高性能化が進み、我々の生活を豊かにするさまざまな製品が生み出されています。
