【フォトマスク】ビジプリ印刷用語辞典
フォトマスク
フォトマスク
（ふりがな：ふぉとますく、英語表記：Photomask）とは、半導体や液晶ディスプレイなどの製造プロセスにおいて重要な役割を果たすツールです。特に、微細な回路パターンを半導体ウェハーやガラス基板の上に転写する際に使用されます。このプロセスはフォトリソグラフィと呼ばれ、光を使ってパターンを転写する技術のことを指します。
フォトマスクは、透明な基板の上に光を遮る材料で作られた特定のパターンを持ちます。このパターンは、製造される半導体やディスプレイの回路パターンに対応しています。フォトリソグラフィのプロセスでは、光源を使ってフォトマスクを照らし、フォトマスクのパターンを感光材料（レジスト）が塗布されたウェハーやガラス基板に転写します。光を遮る部分と通す部分によって、感光材料が反応し、必要なパターンが形成されるのです。
フォトマスクの精度は非常に高く、微細な回路パターンを正確に転写するためには、ナノレベルでの精密さが要求されます。そのため、フォトマスクの製造は高度な技術を必要とし、非常にコストが高い場合があります。しかしながら、半導体や液晶ディスプレイの製造においては欠かせないものであり、電子機器の性能向上や小型化に不可欠な役割を担っています。
近年では、フォトマスクの技術はさらに進化しており、より高い解像度の製品製造に対応するため、極紫外線（EUV）リソグラフィなどの新技術が開発されています。これにより、より小さなトランジスタをより密集させたチップの製造が可能となり、コンピュータやスマートフォンなどの電子機器の性能向上に貢献しています。
フォトマスクは、透明な基板の上に光を遮る材料で作られた特定のパターンを持ちます。このパターンは、製造される半導体やディスプレイの回路パターンに対応しています。フォトリソグラフィのプロセスでは、光源を使ってフォトマスクを照らし、フォトマスクのパターンを感光材料（レジスト）が塗布されたウェハーやガラス基板に転写します。光を遮る部分と通す部分によって、感光材料が反応し、必要なパターンが形成されるのです。
フォトマスクの精度は非常に高く、微細な回路パターンを正確に転写するためには、ナノレベルでの精密さが要求されます。そのため、フォトマスクの製造は高度な技術を必要とし、非常にコストが高い場合があります。しかしながら、半導体や液晶ディスプレイの製造においては欠かせないものであり、電子機器の性能向上や小型化に不可欠な役割を担っています。
近年では、フォトマスクの技術はさらに進化しており、より高い解像度の製品製造に対応するため、極紫外線（EUV）リソグラフィなどの新技術が開発されています。これにより、より小さなトランジスタをより密集させたチップの製造が可能となり、コンピュータやスマートフォンなどの電子機器の性能向上に貢献しています。
