【フォトレジスト】ビジプリ印刷用語辞典
フォトレジスト
フォトレジスト
（ふりがな：ふぉとれじすと、英語表記：Photoresist）とは、光に反応して化学的性質が変化する特殊な感光性材料のことです。この材料は、主に半導体やプリント基板（PCB）、マイクロエレクトロニクス製品の製造過程で使用されるフォトリソグラフィ工程において、極めて重要な役割を果たします。
フォトレジストの基本的な機能は、特定の波長の光に露光された際に、その化学構造が変わり、溶解性が変化することにあります。フォトレジストは、ポジティブタイプとネガティブタイプの二種類に大別されます。ポジティブタイプは露光された部分が溶解性を持ち、開発処理によって除去されやすくなるのに対し、ネガティブタイプは露光された部分が硬化し、非露光部が除去される性質を持っています。これにより、露光パターンに応じた微細な構造を基板上に形成することができます。
フォトリソグラフィ工程では、まず基板上にフォトレジストを均一に塗布し、その後、フォトマスクを介して特定のパターンで光を照射します。露光後、フォトレジストは光に露光された部分とされていない部分とで化学的性質が異なるため、特定の薬液で開発処理を行うことにより、必要なパターンだけを基板上に残すことが可能となります。このプロセスを通じて、半導体チップやプリント基板の微細な回路パターンが形成されます。
フォトレジストの性能は、製造される電子部品の微細化や高密度化に直接影響を与えるため、常に改良が進められています。特に、解像度の向上、露光時間の短縮、環境に対する影響の低減などが重要な研究テーマとなっています。フォトレジスト技術の進歩は、半導体業界のみならず、電子機器全般の性能向上と小型化に貢献し続けています。
フォトレジストの基本的な機能は、特定の波長の光に露光された際に、その化学構造が変わり、溶解性が変化することにあります。フォトレジストは、ポジティブタイプとネガティブタイプの二種類に大別されます。ポジティブタイプは露光された部分が溶解性を持ち、開発処理によって除去されやすくなるのに対し、ネガティブタイプは露光された部分が硬化し、非露光部が除去される性質を持っています。これにより、露光パターンに応じた微細な構造を基板上に形成することができます。
フォトリソグラフィ工程では、まず基板上にフォトレジストを均一に塗布し、その後、フォトマスクを介して特定のパターンで光を照射します。露光後、フォトレジストは光に露光された部分とされていない部分とで化学的性質が異なるため、特定の薬液で開発処理を行うことにより、必要なパターンだけを基板上に残すことが可能となります。このプロセスを通じて、半導体チップやプリント基板の微細な回路パターンが形成されます。
フォトレジストの性能は、製造される電子部品の微細化や高密度化に直接影響を与えるため、常に改良が進められています。特に、解像度の向上、露光時間の短縮、環境に対する影響の低減などが重要な研究テーマとなっています。フォトレジスト技術の進歩は、半導体業界のみならず、電子機器全般の性能向上と小型化に貢献し続けています。
