【フォトファブリケーション】ビジプリ印刷用語辞典
フォトファブリケーション
フォトファブリケーション
（ふぉとふぁぶりけーしょん、英語表記：Photofabrication）とは、光学的な手法を用いて精密な形状やパターンを素材上に製造、加工する工程のことを指します。この技術は、主に半導体製造や金属加工、印刷回路基板（PCB）の製造など、多岐にわたる産業分野で利用されています。フォトファブリケーションのプロセスは、光感受性の化学物質（フォトレジスト）を素材表面に塗布し、特定のパターンを持つマスクを使用して光を照射することで、必要な部分だけを選択的に硬化させることから始まります。硬化した部分はその後の化学処理によって残り、不要な部分が除去され、所望の形状が作り出されます。
フォトファブリケーションのプロセスには、まず素材表面にフォトレジストと呼ばれる光感受性の化学物質を均一に塗布します。次に、製造したいパターンが描かれたマスクをフォトレジストの上に配置し、紫外線などの光源を使用して露光します。露光されたフォトレジストは化学的に反応し、その性質が変化します。最後に、未露光のフォトレジストを特定の溶剤で洗い流し、露光され硬化した部分のみを残して、精密なパターンや回路を形成します。
この技術は、非常に薄い金属膜や半導体素材上に、微細な回路パターンや機械的な構造を製造するのに適しています。フォトファブリケーションにより製造される製品は、コンピュータチップ、マイクロエレクトロメカニカルシステム（MEMS）、精密なフィルター、さまざまな種類のセンサーなど、幅広い範囲に及びます。
フォトファブリケーションの最大の利点は、極めて高い精度で複雑な形状や細かい特徴を素材上に製造できる点にあります。この技術により、ナノスケールの精度で電子機器のコンポーネントを製造することが可能となり、現代の電子産業の発展に不可欠な技術の一つとなっています。フォトファブリケーションは、高度な技術と精密なプロセス制御を要求するため、専門的な知識と設備が必要ですが、それによって得られる製品の性能と品質は、多くの先端技術分野でのイノベーションを支える基盤となっています。
フォトファブリケーションのプロセスには、まず素材表面にフォトレジストと呼ばれる光感受性の化学物質を均一に塗布します。次に、製造したいパターンが描かれたマスクをフォトレジストの上に配置し、紫外線などの光源を使用して露光します。露光されたフォトレジストは化学的に反応し、その性質が変化します。最後に、未露光のフォトレジストを特定の溶剤で洗い流し、露光され硬化した部分のみを残して、精密なパターンや回路を形成します。
この技術は、非常に薄い金属膜や半導体素材上に、微細な回路パターンや機械的な構造を製造するのに適しています。フォトファブリケーションにより製造される製品は、コンピュータチップ、マイクロエレクトロメカニカルシステム（MEMS）、精密なフィルター、さまざまな種類のセンサーなど、幅広い範囲に及びます。
フォトファブリケーションの最大の利点は、極めて高い精度で複雑な形状や細かい特徴を素材上に製造できる点にあります。この技術により、ナノスケールの精度で電子機器のコンポーネントを製造することが可能となり、現代の電子産業の発展に不可欠な技術の一つとなっています。フォトファブリケーションは、高度な技術と精密なプロセス制御を要求するため、専門的な知識と設備が必要ですが、それによって得られる製品の性能と品質は、多くの先端技術分野でのイノベーションを支える基盤となっています。
